Opening Advanced Research Center for Nanolithography
Op dinsdag 11 november 2014 openen Sander Dekker, staatssecretaris van Onderwijs, Cultuur en Wetenschap en Martin van den Brink, President en Chief Technology Officer van ASML het Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL) in Amsterdam.
Het Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL) is een publiek-private samenwerking tussen de Stichting voor Fundamenteel Onderzoek der Materie (FOM), de Universiteit van Amsterdam (UvA), de Vrije Universiteit Amsterdam (VU) en ASML, de producent van lithografiemachines voor de chipindustrie. Het onderzoekscentrum is gevestigd op het Amsterdam Science Park.
Fundamenteel onderzoek
ARCNL is op 1 januari 2014 van start gegaan met prof.dr. Joost Frenken als directeur. ARCNL verricht fundamenteel onderzoek op het gebied van de nanolithografie, in het bijzonder voor toepassingen in de halfgeleiderindustrie. In eerste instantie richt het centrum zich op de fysische en chemische processen die cruciaal zijn voor lithografie met Extreem Ultraviolet (EUV) licht. Inmiddels zijn er vijf onderzoeksgroepen actief en zijn de experimentele opstellingen in de nieuwe laboratoria bijna gereed.
Impuls
Een ‘Advanced Research Center’ is een nieuw type samenwerkingsverband, waarmee NWO een impuls geeft aan samenwerking tussen universiteiten en private partijen. Aan de basisfinanciering van het ARCNL dragen de private en publieke partijen ieder 50 procent bij; de Gemeente Amsterdam en de Provincie Noord-Holland geven aanvullende financiële steun. Tijdens een korte initiële fase, functioneert ARCNL als een afdeling van het FOM-instituut AMOLF. Daarna zal het als een onafhankelijk en zelfstandig onderzoekscentrum verder gaan, met circa honderd wetenschappers en technici in dienst. ARCNL wordt gemanaged door de Stichting FOM onder auspiciën van de Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek (NWO).