ELENA staat voor ‘low energy ELEctron driven chemistry for the advances of emerging NAno-fabrication methods’ en ontving kort geleden een Innovative Training Networks financiering uit het EU Marie Sklodowska-Curie programma. Het is een samenwerking tussen 14 Europese onderzoeksorganisaties en bedrijven, waaronder ARCNL en UvA-HIMS.

Grotendeels onbekende scheikunde

In het Amsterdamse deel van het project gaat men zich bezighouden met de ontwikkeling en toepassing van laser spectroscopie om erachter te komen wat er gebeurt in materialen direct na de absorptie van extreem ultraviolet (EUV) licht (licht met een golflengte van slechts 13,5 nanometer). Deze kennis zal de onderzoekers in staat stellen om fotoresistente materialen te verbeteren voor de EUV toepassing, een essentiële stap in de ontwikkeling van de volgende generatie nanolithografie technologie.

Interessant detail is dat de scheikundige reactie die door radiatie met EUV licht wordt opgewekt grotendeels onbekend is. ‘Dat maakt dat dit spannend onderzoek is zowel vanuit een fundamenteel als een toegepast perspectief,’ zegt Fred Brouwer, die het leiderschap van de ARCNL groep voor Nanophotochemistry combineert met dat van de Molecular Photonics onderzoeksgroep van HIMS.

Over ARCNL

Het Advanced Research Center for Nanolithography is een publiek-private samenwerking tussen de UvA, de Vrije Universiteit Amsterdam, FOM (deel van NWO) en ASML, de wereldleider op het gebied van apparaten voor lithografie. Deze machines definieren de structuur van processors en geheugenkaarten voor computers, tablets en smartphones. ARCNL combineert het beste van twee werelden: de academische focus op wetenschappelijke excellentie en ASML’s focus op een duidelijk afgebakend toepassingsgebied.