Voor de beste ervaring schakelt u JavaScript in en gebruikt u een moderne browser!
Switch to English

Het nieuw op te richten Institute for Nanolithography (INL) is ‘een geweldige stap in de samenwerking tussen onderwijs, onderzoek en kennisintensieve bedrijven op het Science Park Amsterdam,’ zegt Paul Doop, vicevoorzitter van het College van Bestuur van de Universiteit van Amsterdam (UvA).

Het INL is een samenwerking tussen hightechbedrijf ASML, FOM/NWO, UvA en de Vrije Universiteit Amsterdam. Het instituut moet een wereldwijde speler binnen het halfgeleideronderzoek worden. Het richt zich daarbij met name op de halfgeleiderlithografie, de belangrijkste productietechnologie voor het maken van geheugenchips en processoren van pc's, smartphones en tablets. Het INL wordt gevestigd op het Science Park Amsterdam en zal in eerste instantie door het FOM-instituut AMOLF worden ingesteld.

Albert Polman, directeur AMOLF en hoogleraar aan de UvA: ‘Dit nieuwe instituut brengt high-tech fundamenteel onderzoek naar Amsterdam. We krijgen binnen twee jaar tijd ruim honderd nieuwe onderzoekers op een onderzoeksgebied met groot technologisch belang. Ik denk ook dat het veel studenten zal trekken, die in het nieuwe instituut een high-tech stage kunnen doen.’

De oprichting van het INL heeft grote betekenis voor onderzoek en onderwijs in de bètawetenschappen, stelt ook Kareljan Schoutens, decaan van de Faculteit der Natuurwetenschappen, Wiskunde en Informatica (FNWI) van de UvA: ‘Bijzonder is dat het INL wordt gekoppeld aan de onderwijsprogramma’s van de gezamenlijke bètafaculteiten van de UvA en VU. Dat biedt uitgelezen mogelijkheden voor onderzoeksstages en promotieonderzoek’.