Plankens project is gericht op het beter begrijpen en voorkomen van materiaalveranderingen in optische meetsystemen ten gevolge van licht.

Schade beperken

In de halfgeleiderindustrie worden in het gehele lithografische proces geavanceerde optische sensoren gebruikt. Zulke sensoren zijn van vitaal belang in de nanolithografie en helpen het voortzetten van de Wet van Moore. Deze sensoren gebruiken steeds sterkere lichtbronnen om de signaalsterkte te vergroten, waardoor de kans op optische schade ook toeneemt. In samenwerking met ASML richt het onderzoek dat Planken voorstelt zich op het classificeren van de verschillende soorten optische schade en, belangrijker, op het begrip van de fundamentele mechanismen die verantwoordelijk zijn voor deze schade. In veel gevallen is maar weinig bekend over de schadedrempels en de onderliggende mechanismen bij materialen die van belang zijn voor de industrie, zoals amorf koolstof of Si₃N₄. Met de kennis die in dit onderzoek wordt opgedaan zullen wetenschappers in staat zijn numerieke modellen te ontwikkelen die kunnen voorspellen wanneer schade ontstaat en hoe de kans op schade verkleind kan worden.

HTSM

Het High Tech Systems and Materials-programma (HTSM) daagt onderzoekers en bedrijven uit om samen kennis te ontwikkelen voor technische doorbraken en innovatieve toepassingen. De jaarlijkse ronde voor HTSM-voorstellen, georganiseerd door het NWO-domein Applied and Engineering Sciences (AES), komt voort uit het topsectorbeleid van de Nederlandse regering. Dit jaar zullen in totaal 22 projecten van start gaan.