In het algemeen is er bij smering een trend waarneembaar naar steeds dunnere smeermiddellagen. Hoewel er veel fundamenteel begrip is op het gebied van smering, zijn er op zeer kleine schaal belangrijke vragen nog niet beantwoord. Zo ontbreekt het nog aan gedetailleerd experimenteel inzicht in de invloed van de specifieke kenmerken van de oppervlaktetopografie (de 'ruwheid') op de overgang tussen verschillende smeringsregimes. In het bijzonder is er veel discussie over de fenomenen die zich voordoen wanneer de dikte van de smeerfilm zich slechts over enkele moleculen uitstrekt.

In hun paper in Science Advances presenteren de onderzoekers nu de resultaten van een nieuwe aanpak die fundamenteel onderzoek met zeer hoge resolutie mogelijk maakt en waarbij de oppervlaktetopografie wordt gekoppeld aan smeringsverschijnselen. Het onderzoek werd uitgevoerd aan het Van 't Hoff Institute for Molecular Sciences  (HIMS) en het Institute of Physics (IOP) van de Universiteit van Amsterdam. Onderzoekers van het Nederlandse Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL), de Universiteit Twente (Enschede, Nederland) en de Université Paris-Saclay (Parijs, Frankrijk) droegen bij aan het onderzoek.

Lees meer in het Engelse nieuwsbericht.