Ackermann is momenteel directeur van ARCNL en tevens hoogleraar aan de Universiteit Twente, waar hij voorheen leiding gaf aan de XUV Optics Industrial Focus Group (XUV). De gezamenlijke leerstoel onderstreept het belang van geavanceerd lithografieonderzoek binnen het academische en industriële landschap van Nederland.

Het ecosysteem van lithografieonderzoek verbinden

Als directeur van ARCNL fungeert Marcelo Ackermann tevens als schakel tussen academische en industriële partners. Zijn gezamenlijke leerstoel als hoogleraar aan de UvA en de VU versterkt de band tussen ARCNL en de oprichtende academische partners.

Het feit dat Ackermann nu in een hoogleraarspositie aan meerdere Nederlandse universiteiten is verbonden, onderstreept de waarde die zij hechten aan geavanceerd lithografieonderzoek. ASML en Nederland lopen voorop in de lithografietechnologie, die essentieel is voor de productie van de computerchips die onze moderne wereld aandrijven. Om voorop te blijven lopen in deze technologie, is een sterke koppeling tussen onderzoek en implementatie dan ook noodzakelijk.

“Nanolithografie is een ongelooflijke krachttoer op het gebied van geavanceerde natuurkunde en techniek”, zegt Ackermann. “Daardoor is de ontwikkeling van deze technologie een interessant onderzoeksgebied voor zowel de academische wereld als de industrie.”

Van oost naar west

Al vóór zijn benoeming tot directeur van ARCNL bekleedde Ackermann een hoogleraarschap aan de Universiteit Twente in Enschede. Daar leidde hij de XUV Optics Industrial Focus Group (XUV) binnen het MESA+ Instituut en de afdeling Wetenschap en Technologie, die zich al sterk richtte op industrieel-academisch onderzoek naar nanolithografie.

Sinds hij naar Amsterdam kwam is een van Ackermanns doelen geweest om een ​​bredere samenwerking te bevorderen tussen onderzoekers die zich bezighouden met onderwerpen gerelateerd aan nanolithografie, zowel nationaal als internationaal. In het kader hiervan regelde hij een bezoek van ARCNL aan zijn groep in Twente, en later dit jaar komt de XUV-groep naar Amsterdam.

Gezamenlijke oratie

Door een leerstoel voor de directeur van ARCNL in te stellen, versterken de oprichtende academische partners UvA en VU hun banden met de verdere ontwikkeling van de lithografietechnologie. Bovendien behoudt de Universiteit Twente, door Ackermanns aanstelling bij het MESA+ Instituut te handhaven, ook haar band met het lithografieonderzoeksecosysteem.

Dit najaar geeft Ackermann een gezamenlijke oratie ter gelegenheid van zijn benoeming aan de UvA en de VU.